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최종편집2024-04-23 19:08 (화) 기사제보 구독신청
삼성전자, 업계 최초 EUV 시스템반도체에 3D 적층 기술 적용
삼성전자, 업계 최초 EUV 시스템반도체에 3D 적층 기술 적용
  • 이경원 기자
  • 승인 2020.08.13 11:52
  • 댓글 0
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복수의 칩 적층해 하나의 반도체로 만드는 기술..."반도체 성능 한계 극복 위한 집적 기술 지속 혁신"
삼성전자가 업계 최초로 7나노 EUV 시스템반도체에 3차원 적층 패키지 기술인 'X-Cube'를 적용한 테스트칩을 생산했다.삼성전자
삼성전자가 업계 최초로 7나노 EUV 시스템반도체에 3차원 적층 패키지 기술인 'X-Cube'를 적용한 테스트칩을 생산했다.<삼성전자>

[인사이트코리아=이경원 기자] 삼성전자가 업계최초로 7나노 EUV 시스템반도체에 3차원 적층 패키지 기술인 'X-Cube(eXtended-Cube)'를 적용한 테스트칩 생산에 성공했다.

'X-Cube'는 전 공정을 마친 웨이퍼 상태의 복수 칩을 위로 얇게 적층해 하나의 반도체로 만드는 기술로, 삼성전자는 최첨단 EUV 초미세 전공정에 이어 후공정에서도 첨단 기술 경쟁력을 확보하게 됐다는 평가다.

'X-cube' 기술은 로직과 SRAM(Static Random Access Memory)을 단독으로 설계·생산해 위로 적층하기 때문에 전체 칩 면적을 줄이면서 고용량 메모리 솔루션을 장착할 수 있어 고객의 설계 자유도를 높일 수 있다는 설명이다.

데이터 통신 채널을 고객 설계에 따라 자유자재로 확장할 수 있고, 신호 전송 경로 또한 최소화할 수 있어 데이터 처리 속도를 극대화할 수 있다는 장점도 있다.

삼성전자 측은 해당 기술이 슈퍼컴퓨터·인공지능·5G 등 고성능 시스템반도체를 요구하는 분야는 물론 스마트폰과 웨어러블 기기의 경쟁력을 높일 수 있는 핵심 기술로 활용될 것으로 예상된다는 입장이다.

강문수 삼성전자 파운드리사업부 마켓전략팀 전무는 "EUV 장비가 적용된 첨단 공정에서도 TSV 기술을 안정적으로 구현해냈다"며 "삼성전자는 반도체 성능 한계 극복을 위한 기술을 지속 혁신해 나가겠다"고 밝혔다.

인사이트코리아, INSIGHTKOREA

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